光學鍍膜目的是改變基片玻璃表面的反射和透射特性,以實現光線的高透射率或者濾除有害光線,改變光線傳播方向、分離光波、合成光波等,其基本上是藉由干涉作用來實現效果的
光在薄膜內干涉效果隨波長變化而改變,光經過光學薄膜後,不同波長光的透射、反射、偏振及相位會發生不同變化,這些變化使得光學薄膜至少具有以下功能∶①反射率的增加或透過率的降低
在高真空下加熱基片,除進一步乾燥基片外,更重要的是使基片(工件)表面吸附的氣體脫附,然後經真空泵抽氣排出真空室,有利於提高鍍膜室真空度、膜層純度和膜基結合力
特點:多用於要求純度極高的膜、絕緣物的蒸鍍和高熔點物質的蒸鍍6、真空蒸發鍍膜特點1)優點裝置簡單、操作容易薄膜純度高,質量好,厚度可控速率快、效率高、可用掩膜獲得清晰圖形薄膜生長機理比較單純2)缺點不易獲得結晶結構的薄膜薄膜與基片附著力小工
採用選擇氧化進行器件隔離時所使用的氮化矽薄膜也是用低壓CVD法,利用氨和SiH4 或Si2H6反應面生成的,作為層間絕緣的SiO2薄膜是用SiH4和O2在400 ——4500 oC的溫度下形成SiH4 + O2 –-SiO2 + 2H2或是
在微電子工業領域應用層面,可被用於製作MESFET(金屬半導體場效電晶體)、HEMT(高電子遷移率電晶體)、HBT(異質結雙極電晶體)、IC、微波二極體、Hall器件等
濺射後的銀靶材為了解決陰極濺射的缺陷,人們在20世紀年代開發岀了直流磁控濺射技術,它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的弱點,因而獲得了迅速發展和廣泛應用其原理是:在磁控濺射中,由於運動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運動軌跡會
否則基片在鍍前就有灰塵附著,除產生其它不良外,對膜強度也有影響
真空蒸鍍,簡稱蒸鍍,是指在真空條件下,採用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料(或稱膜料)並使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法
磁控濺射定義在二極濺射中增加一個平行於靶表面的封閉磁場,藉助於靶表面上形成的正交電磁場,把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率,增加離子密度和能量,從而實現高速率濺射的過程
基片與膜層的結合是首要考慮的,其次是膜表面硬度光滑度以及膜應力