光學玻璃超聲波清洗工藝

光學玻璃清洗在超聲波清洗中要求還是比較高的，關於光學玻璃清洗可分為研磨前和鍍膜前的清洗，對於光學玻璃清洗工藝流程可分為以下步驟。

光學玻璃清洗

1.研磨後的清洗

研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表面質量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要汙染物為研磨粉和瀝青，少數企業的加工過程中會有漆片。

其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的鹼金屬氧化物。根據鏡片的材質及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。

在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨後的清洗裝置大致分為兩種：一種主要使用有機溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。

2.鍍膜前清洗

鍍膜前清洗的主要汙染物是求芯油（也稱磨邊油，求芯也稱定芯、取芯，指為了得到規定的半徑及芯精度而選用的工序）、手印、灰塵等。

由於鍍膜工序對鏡片潔淨度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。

超聲波清洗機的清洗不僅僅限於光學玻璃的清洗，幾乎大部分行業動需要用到超聲波清洗機，目前都可以根據使用者的需求來個性化定製。